Η αρχή και η εφαρμογή της τεχνολογίας παλμικής τροφοδοσίας
Το παλμικό τροφοδοτικό αναφέρεται στην προσθήκη αυτόματης λειτουργίας χρονισμού με βάση το τροφοδοτικό DC. Είναι σχεδιασμένο με βάση την αρχή της γραμμής αυτόματης γήρανσης, στοχεύοντας στα χαρακτηριστικά και τις μεθόδους επισκευής του φιλμ οξειδίου πυκνωτή, προκειμένου να επιτευχθεί εξοικονόμηση ενέργειας και βελτίωση της απόδοσης. Ταυτόχρονα, μπορεί επίσης να χρησιμοποιηθεί για πειραματικές δοκιμές ηλεκτρονικών εξαρτημάτων όπως αντιστάσεις, θερμίστορ και κινητήρες.
Αρχή: Πρώτον, μέσω της αργής αποθήκευσης ενέργειας, η πρωτογενής ενέργεια έχει επαρκή ενέργεια. Στη συνέχεια, το σύστημα ενδιάμεσης αποθήκευσης ενέργειας και σχηματισμού παλμών φορτίζεται (ή ρέει ενέργεια) και η ενέργεια υφίσταται ορισμένες πολύπλοκες διεργασίες όπως αποθήκευση, συμπίεση, σχηματισμός παλμού ή μετατροπή, πριν τελικά εκφορτιστεί γρήγορα στο φορτίο.
Όταν χρησιμοποιείται για επιμετάλλωση χρυσού, ασημιού, νικελίου, κασσίτερου και κραμάτων, μπορεί να βελτιώσει σημαντικά τη λειτουργικότητα της επίστρωσης. Όταν χρησιμοποιείται για προστατευτική διακοσμητική επιμετάλλωση (όπως ο διακοσμητικός χρυσός), μπορεί να κάνει το χρώμα της επίστρωσης ομοιόμορφο και συνεπές, με καλή φωτεινότητα και ισχυρή αντοχή στη διάβρωση.
Όταν χρησιμοποιείται παλμική ισχύς για καθαρισμό πολύτιμων μετάλλων, η καθαρότητα των πολύτιμων μετάλλων είναι υψηλότερη. Η παλμική τροφοδοσία είναι ανώτερη από την παραδοσιακή τροφοδοσία ηλεκτρολυτικής επιμετάλλωσης και είναι η κατεύθυνση ανάπτυξης της τροφοδοσίας ηλεκτρολυτικής επιμετάλλωσης.
Το τροφοδοτικό διπλού παλμού παρέχει λεπτότερη επιμετάλλωση και καλύτερη ομαλότητα από το τροφοδοτικό ενός παλμού. Η ανοδική διάλυση του αντίστροφου παλμού της τροφοδοσίας διπλού παλμού προκαλεί μια ταχεία αύξηση της συγκέντρωσης μεταλλικών ιόντων στην επιφάνεια της καθόδου, η οποία είναι ευεργετική για τον επόμενο κύκλο καθόδου για τη χρήση υψηλής πυκνότητας ρεύματος παλμού, με αποτέλεσμα ένα πυκνό, φωτεινό και επίστρωση χαμηλού πορώδους. Η ανοδική απογύμνωση του αντίστροφου παλμού του τροφοδοτικού διπλού παλμού μειώνει σημαντικά τη συμπερίληψη οργανικών ακαθαρσιών (συμπεριλαμβανομένων των λαμπρυντικών) στην επίστρωση, με αποτέλεσμα την υψηλή καθαρότητα και την ισχυρή αντίσταση χρώματος της επίστρωσης.
Το τροφοδοτικό διπλού παλμού είναι κατάλληλο για επιμετάλλωση χρυσού, αργύρου, σπάνιων μετάλλων, νικελίου, ψευδαργύρου, κασσίτερου, χρωμίου και κραμάτων. Ηλεκτροδιαμόρφωση χαλκού, νικελίου κ.λπ. Ενεργειακή εφαρμογή ηλεκτρολυτικών πυκνωτών; Ανοδίωση αλουμινίου, τιτανίου και άλλων προϊόντων. Ηλεκτρολυτική στίλβωση εξαρτημάτων ακριβείας. Φόρτιση μπαταριών κ.λπ.
